應(yīng)用
- 光伏
- 半導(dǎo)體
- 汽車
- 顯示
技術(shù)
- ALD
- PVD
- CVD
- PECVD
優(yōu)勢：
?采用閉環(huán)控制器的高反應(yīng)濺射率
?出色的氣體分離技術(shù)
?靈活配置以滿足特定的生產(chǎn)需求
?3、5或7倍微調(diào)氣體分布以提高涂層均勻性
?優(yōu)化的磁性配置，具有出色的均勻性和利用率
?兼容工業(yè)機器人的自動裝卸
該設(shè)備專為鍍制釹鐵硼等磁性材料而設(shè)計，配置旋轉(zhuǎn)陰極提高靶材利用率，配備貴金屬回收設(shè)計，有效控制生產(chǎn)成本。
通過電弧、磁控濺射、熱蒸發(fā)等鍍膜方式，輔助高壓離子轟擊，在釹鐵硼材料上快速鍍制致密鋁涂層、鏑涂層，鋱涂層等重稀土材料，從而得到一種同性能、低成本的磁鋼，為企業(yè)節(jié)約了成本，減少了資源的浪費。
?針對目前釹鐵硼鍍膜的急劇需求，我司最新推出改良型釹鐵硼表面涂層設(shè)備，設(shè)備具有沉積速率快，膜層致密，防腐能力高，生產(chǎn)過程無污染等特點，從而解決客戶對產(chǎn)品的要求，我們行業(yè)經(jīng)驗豐富，為客戶提供一條龍服務(wù)，解決客戶擔憂。
節(jié)省材料和維護時間，產(chǎn)生最高利用率
穩(wěn)定的工藝和出色的氣體分離
濺射速率高，氧化率低，耗氣量低
高正常運行時間和快速維護周期
靈活的可編程邏輯控制器
允許根據(jù)個人生產(chǎn)需要配置
| 項目 | 性能 |
| 基材 | Nd2Fe14B（釹鐵硼） |
| 工件尺寸 | 多種規(guī)格，厚度2-6mm |
| 托盤尺寸 | 1640mm×1640mm |
| 節(jié)拍 | 10-45min |
| 薄膜材料 | Tb、Dy及其合金 |
| 薄膜厚度 | 3-18um |
| 薄膜均勻性 | ≤±5% |
| 稼動率 | ≥90% |
| 產(chǎn)能 | 2噸/天 |
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