應(yīng)用
- 光伏
- 半導(dǎo)體
- 汽車
- 顯示
技術(shù)
- ALD
- PVD
- CVD
- PECVD
PVD是物理氣相沉積的縮寫，指在真空狀態(tài)下通過材料蒸發(fā)進行沉積鍍膜的技術(shù)。真空腔體是避免蒸發(fā)材料與空氣發(fā)生反應(yīng)的必要條件。PVD鍍膜可賦予產(chǎn)品高附加值特性，如絢麗色彩、卓越耐磨性和減摩功能。該工藝通過使金屬材料汽化后與氮氣等反應(yīng)氣體結(jié)合形成鍍層，基材材料在電弧工藝中受熱能激發(fā)或在濺射工藝中受動能作用，從固態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)并發(fā)生電離。PVD技術(shù)全程符合環(huán)保要求，無污染產(chǎn)生。匯成真空始終專注于PVD鍍膜技術(shù)的研發(fā)與應(yīng)用。
物理氣相沉積涵蓋薄膜技術(shù)中的特定工藝，特指采用物理方法在基材上沉積薄膜的真空鍍膜技術(shù)。在各類PVD技術(shù)中，濺射沉積因其經(jīng)濟性成為眾多行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)化鍍膜方案，其優(yōu)勢在于能在多樣化基材上沉積多種材料。該技術(shù)已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體表面精加工、光學(xué)偏振片制造、建筑玻璃大面積鍍膜等領(lǐng)域。我們不僅為客戶提供鍍膜系統(tǒng)，還憑借逾25年技術(shù)積累開發(fā)生產(chǎn)濺射靶材，形成完整的技術(shù)服務(wù)體系。
所有PVD工藝中，成膜材料初始均為固態(tài)并置于工藝腔內(nèi)（如濺射靶材）。通過激光脈沖、電弧、離子/電子轟擊等汽化方式，材料在基材表面冷凝形成薄膜。熱蒸發(fā)沉積通過電加熱使材料釋放至氣相，分子束外延和離子束濺射也屬PVD工藝范疇。PVD鍍膜具有膜層純度極高、均勻性優(yōu)異、附著力強等特點，為眾多應(yīng)用領(lǐng)域提供了替代傳統(tǒng)電化學(xué)工藝的環(huán)保解決方案。
裝飾性PVD鍍膜設(shè)備可在五金件、不銹鋼板/管、玻璃、陶瓷、塑料、亞克力及樹脂等基材表面沉積裝飾性鍍層。該技術(shù)具備操作簡便、成本低廉及量產(chǎn)能力強等優(yōu)勢，已廣泛應(yīng)用于珠寶、鐘表、燈具、廚衛(wèi)潔具、建筑、醫(yī)療、餐飲、科研、數(shù)碼、娛樂、電器、化妝品、玩具等行業(yè)。經(jīng)鍍膜處理的產(chǎn)品能呈現(xiàn)典雅、炫目等多種持久美觀效果，且膜層長期不褪色，完美實現(xiàn)美學(xué)價值與實用性能的統(tǒng)一。
可制備多種具有光學(xué)功能的薄膜，用以改變基材的透射與反射特性。這類薄膜包括增透膜（AR）、紫外/紅外截止濾光片、防指紋膜（AF）、電機金屬膜、增透硬質(zhì)膜、增強反射膜、硬質(zhì)膜、裝飾膜、ITO導(dǎo)電膜、分色鏡、帶通濾光片、偏光片、RGB濾光片、光觸媒膜、高反射膜（HR）等，現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于數(shù)碼相機、智能手機、眼鏡、投影儀、光學(xué)讀頭、光通信、LED、電子產(chǎn)品、裝飾品、太陽能電池、顯示器等領(lǐng)域。
基于PMA-I專利技術(shù)，HCVAC公司進一步開發(fā)出PMA-II專利技術(shù)，并成功將該技術(shù)集成于新一代HCSH鍍膜系統(tǒng)。此系統(tǒng)具備靈活配置特性，可兼容電弧蒸發(fā)、磁控濺射、高功率脈沖磁控濺射等多種工藝技術(shù)，為新型涂層與材料的研發(fā)創(chuàng)造更多可能性，現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于科研、半導(dǎo)體、刀具、工模具、零部件、醫(yī)療器械、光學(xué)、新能源等行業(yè)領(lǐng)域。
采用磁控濺射或熱蒸發(fā)的PVD技術(shù)，可實現(xiàn)帶材基體的連續(xù)鍍膜。磁控濺射工藝適用于PET、PI、PC、COP等柔性聚合物帶卷及金屬帶材表面的連續(xù)涂層制備，可沉積鋁、鈦、鉻、銅、鎳鉻合金、鎳、銀等金屬材料，以及二氧化鈦、五氧化二鈮、二氧化硅、ITO、硅鋁氧化物、氧化鉬等氮化物與氧化物。而熱蒸發(fā)技術(shù)則適用于PET、雙向拉伸聚丙烯、聚氯乙烯、流延聚丙烯等高分子薄膜、紙張、金屬箔材的連續(xù)鍍膜，可加工鋅硫化物、一氧化硅、氟化鎂等化合物以及鋁、銅、銀等金屬材料。
HCVAC為汽車燈具及內(nèi)飾照明行業(yè)提供專業(yè)的真空鍍膜設(shè)備與工藝解決方案，廣泛應(yīng)用于汽車前照燈與尾燈、后視鏡、車標(biāo)、進氣格柵、門把手、門窗裝飾條、內(nèi)飾條及內(nèi)飾照明等零部件的表面處理。該系列設(shè)備配備等離子體預(yù)處理裝置、高效磁控濺射陰極及電阻蒸發(fā)源等核心組件，具有沉積速率快、膜基結(jié)合力強、鍍層致密細膩、表面光潔度高及均勻性優(yōu)異等特點。
主要用于平板玻璃、壓克力、PC、PET等基板上鍍膜，各種金屬膜，介質(zhì)膜，介質(zhì)金屬復(fù)合膜，透明導(dǎo)電膜，CF等膜層。本公司可按照用戶要求提供設(shè)計，提供全套設(shè)備，負責(zé)工藝，按“交鑰匙”工程服務(wù)。
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